Intel首席技術長Alexis Crowell 訴說未來的宏偉藍圖|封面故事
廣告
在過去幾年,隨著Intel將其技術從14納米轉移到10納米,同時眼看台積電(美股代號:TSM)等企業,在先進製造技術方面取得領先,Intel遭遇了不少挑戰。Intel行政總裁Pat Gelsinger已經承諾要恢復該公司在半導體製造領域的領先地位;其首席技術長兼亞太及日本區副總裁Alexis Crowell接受訪問時,便提到對該計劃感到十分樂觀,表示公司的策略,是致力為市場提供多元化的數碼解決方案。
自Pat Gelsinger上任後,便對公司進行了徹底的變革,包括制定名為IDM 2.0的新策略,其中涉及大規模建造新晶圓廠,以及振興其代工晶片製造業務。 Intel的長遠目標是在2025年,重憑藉其節點技術重新奪回市場領導地位。
過去一直在製程技術卡關許久的Intel,希望以透過四年內推進五個製程節點目標,大舉扭轉先前在製程技術處於劣勢的局面。 Alexis Crowell提到Intel正按照計劃推進,以確保在關鍵的製程技術上取得進展。她對此表示非常樂觀,認為這對客戶來說是絕對關鍵的,「因為客戶想要在他們的產品中,擁有某種靈活性。」