【國產光刻機測中芯】宇量昇28奈米DUV獲正面結果 技術追近ASML十七年前世代 傳明年產量擴至20台
據公開資料及多方報道,上海企業宇量昇科技研發的國產浸潤式 DUV 光刻機,近月已交付中芯國際進行測試,初步結果令業界感到鼓舞。宇量昇成立於 2022 年,註冊資本達人民幣 10 億元,總部設於上海浦東,股權由深圳新凱來科技與上海創科微等機構持有,被視為與華為半導體生態圈關係密切的設備商。市場消息並指,該公司今年計劃出貨約 5 台設備予中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲等本土晶片廠,明年目標則提高至約 20 台。
技術規格:瞄準28奈米 多重曝光挑戰7奈米
這台國產設備採用與 ASML 相近的浸潤式曝光技術,外界推測其性能大約相當於 ASML 早年 NXT: 1950i 世代機種,主要瞄準 28 奈米級別製程。透過多重曝光技術,理論上亦可用於生產 7 奈米甚至 5 奈米級別的晶片,惟良率預期會較低。有分析引述資深半導體分析師指出,新款 DUV 設備一般需要至少一年反覆調校,方能達到量產所需的穩定度與良率,意味中芯目前的測試僅屬起步階段,距離正式導入量產產線仍有一段路。中芯本身亦計劃於 2026 年將產能提升至現有的三倍,惟屆時大部分增產仍將依賴現有 ASML 設備,國產設備最快要到 2027 年後方有望投入量產。
【業界觀察】量產數據仍是關鍵未知數
多位業內人士指出,送入中芯測試不等同已成為量產工具,五台交付量亦未必代表重大突破。真正決定成敗的,是套刻精度能否長時間保持穩定、每小時可處理的晶圓片數、機台可用率與故障頻率、關鍵零件壽命,以及能否最終通過客戶正式驗收等一系列量產級數據。若國產設備能做到「製程雖屬成熟級但穩定可靠、維修不受出口管制掣肘」,並獲中芯、華虹與長鑫等多間廠商共同驗證使用,其戰略價值仍然不容忽視 — 尤其在美國持續收緊對華晶片設備出口管制的背景下,此類設備有助中國晶片廠減低對外部供應鏈的依賴。
| 項目 | 公開資料所示 | 洞察 |
|---|---|---|
| 研發企業 | 宇量昇科技(2022年成立,註冊資本10億人民幣) | 與國產設備生態圈關係密切 |
| 技術世代 | 約相當於ASML NXT:1950i世代 | 與ASML最新機種仍有明顯差距 |
| 目標製程 | 28奈米為主,多重曝光可達7奈米 | 屬成熟至準先進製程區間 |
| 今明兩年出貨 | 今年約5台,明年目標約20台 | 量產爬坡速度值得追蹤 |
| 交付對象 | 中芯國際、華虹半導體、長鑫存儲 | 三大本土晶片廠共同驗證 |
市場反應:消息一度衝擊ASML股價
國產 DUV 設備進展的消息,早前一度在市場掀起漣漪,ASML 股價曾於消息流出後單日一度下挫超過 4%,反映投資者憂慮中國設備自主化進度若持續加快,長遠或影響 ASML 在中國市場的新機銷售,以至後續維修、升級與服務收入。不過亦有分析認為,即使國產設備如期擴產,其技術世代與 ASML 現時主力機種仍存在顯著差距,短期內難以撼動 ASML 在先進封裝與極紫外光(EUV)領域的絕對優勢,兩者之間的技術鴻溝,預料仍需數年時間方有望收窄。
現階段而言,國產 DUV 光刻機仍處於「測試獲正面反饋」的早期階段,能否撐過量產驗收的重重考驗,仍是未知之數。這場中國半導體設備自主化的長跑,最終能否真正動搖 ASML 的市場地位,仍需時間與數據逐步印證。
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