【SK海力士洩密案二審】前員工擬轉職華為海思洩CIS機密　首爾高院判囚18個月維持原判

【案情曝光】擬轉職華為海思　違規複製近6000頁機密

據報道，涉案金姓被告自2016年起任職於SK海力士，並於2018年至2022年間派駐上海辦事處。案發於2022年2月，金某在收到華為旗下海思相關企業的轉職邀請後，萌生跳槽意圖，為求在履歷中展現專業能力，違反公司保密規定，從內部文件管理系統列印約20頁涉及CMOS影像感測器（CIS）核心技術的機密資料，其後再分批列印相關文件，累計約186頁；金某其後更將公司手提電腦帶回住所，以個人iPad對電腦螢幕拍攝存檔，涉及文件多達逾6,000頁，內容涵蓋公司多項核心商業機密。

【判決結果】二審維持原判　罪成違反多項法規

首爾高等法院刑事審判庭審理後，裁定金某違反《產業技術保護法》、《防止不正當競爭及保護商業秘密法》以及涉背信罪，維持一審判處的有期徒刑18個月，未有加刑或減刑。案件反映南韓司法機構近年對半導體核心技術外洩案件採取較嚴厲的量刑取態，亦凸顯在中美科技角力持續下，具備高階晶片製程與感測技術的南韓企業，正面對愈趨頻繁的人才與技術外流風險。

【行業啟示】半導體技術保護戰持續升溫

今次判決再次為南韓晶片行業敲響警號。近年南韓多間半導體大廠均傳出核心技術外洩案件，涉及製程參數、感測器設計以至封裝技術等敏感範疇，當中不少個案均與意圖轉職至中國相關企業有關。對投資者及行業觀察者而言，事件反映全球晶片供應鏈重塑之際，人才與技術保護已成為各大半導體企業的核心議題之一；南韓政府與企業近年亦持續加強內部保密機制及跨境技術轉移監管，預料同類案件的司法處理與企業防範措施，將繼續是市場關注焦點。

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